Study of the Nucleation and Growth Mechanisms of Copper Electrodeposition on Bare and Nitrogen-Doped Reduced Graphene Oxide Modified SnO2:F/glass Substrates

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JECS-Cu-NERGO 2020.pdf (1.39 MB)

Fecha

2020

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Artículos investigadores UV
51
5
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MendeleyEndNoteBibTeXCSV

Autores

Riveros, G. , León, M. , Ramírez, D. , Hernández, L. , Martín, F. , Romero, R. , Dalchiele, Enrique A.

Profesor Guía

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Editor

The Electrochemical Society

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DOI

https://doi.org/10.1149/1945-7111/abb281

URI

http://repositoriobibliotecas.uv.cl/handle/uvscl/3844

Facultad

Facultad de Ciencias

Departamento o Escuela

Instituto de Quimica y Bioquimica

Determinador

Recolector

Especie

Nota general

Resumen

In this article, the influence of a nitrogen-doped electrochemically reduced graphene oxide layer on the nucleation and growth mechanisms of copper electrodeposition was studied. Thus, copper electrod...

Descripción

Lugar de Publicación

Auspiciador

Palabras clave

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© 2020 The Electrochemical Society (“ECS”). Published on behalf of ECS by IOP Publishing Limited

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