Examinando por Autor "Luque M., Dra. Issis"

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    Efecto de los protocolos de limpieza y tratamientos de superficie pre-cementación sobre la resistencia de unión de diferentes resinas compuestas indirectas
    (Universidad de Valparaíso, 2017) Cabezas F., Ximena; Carrasco P., Rocío; Jerez D., Gabriela; Valenzuela F., Bárbara; Muñoz P., Dr. Miguel; Luque M., Dra. Issis
    Background: Los protocolos de limpieza/superficie pre-cementación son importantes en la cementación. Se han establecido protocolos para mejorar resistencia de unión adhesiva (RUA), sin embargo, los protocolos de limpieza (PL) son poco claros, y no son considerados influyentes en RUA. Objetivo: Evaluar los efectos de los protocolos de de limpieza/superficie pre- cementación bajo diferentes tiempos de aplicación, en la RUA (MPa) de resinas compuestas indirectas. Metodología: 270 cuerpos, divididos en 2 grupos, una resina CAD/CAM y otra Resina Compuesta Indirecta (RCI); distribuidos en 27 subgrupos (n=5) según las siguientes variables: PL (Ultrasonido [U]- control negativo; Ácido ortofosfórico 37% [AO], Etanol 96° [E]), Tratamientos de superficie (PS) (Silano [S]; Monobond Plus [MN]; Monómero-de-fosfato Clearfill Ceramic Primer [MF]); Tiempos de aplicación: 5-15-30 segundos. Se delimitó el área adhesiva con cinta doble-faz. Cinco cilindros (1 mm de alto x 0,7 de Ø) de cemento (Variolink Esthetic LC) por muestra realizados sobre superficies tratadas y fotopolimerizados (40s). Luego de 24hrs/37ºC+agua destilada fueron sometidos a prueba de RUA (0,5 mm/min) hasta su fractura en máquina de ensayo universal. Datos analizados con test ANOVA/Tukey (α=0,05). Resultados: RCI: el mejor protocolo fue U+MF por 15s (10,1 ± 1,2) (P<0.005). Resina CAD/CAM la mayor RUA fue AO+MF por 5s (12,3 ± 1,6) (p<0,05); a 15 y 30s fue E+MF. Discusión: Los PL afectaron la RUA para todos los PS. AO a 30s logra efectividad similar con MN. S fue afectado por limpiezas químicas (AO/E, a 5/30s) Conclusiones: E se comportó estable en ambas resinas, independiente del tiempo. MF es buena opción aplicado después de U/E o AO por más de 30 s.